[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200410068266.6 | 申请日： | 2004-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN1591192B | 公开（公告）日： | 2005-03-09 |
| 发明（设计）人： | M·M·T·M·迪里奇斯;S·N·L·当德斯;J·H·W·贾科布斯;H·詹森;E·R·鲁普斯特拉;J·J·S·M·梅坦斯;M·K·斯塔文加;B·斯特里克;M·C·M·维哈根;L·塞恩蒂恩斯-格鲁达 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投射系统；用于以浸液至少部分填充所述投射系统的最后元件和所述基底之间的空间的液体供给系，其中所述液体供给系统包括在浸液进入所述空间前照射所述浸液的紫外线光源；而且所述液体供给系统在所述投射系统的投射镜头周围形成无接触密封，从而所述浸液被限定为填充与所述投射系统面对的基底的主要表面和所述投射系统的最后元件之间的空间。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投射系统；用于以浸液至少部分填充所述投射系统的最后元件和所述基底之间的空间的液体供给系统，其特征在于：所述液体供给系统包括在浸液进入所述空间前照射所述浸液的紫外线光源；而且所述液体供给系统在所述投射系统的投射镜头周围形成无接触密封，从而所述浸液被限定为填充与所述投射系统面对的基底的主要表面和所述投射系统的最后元件之间的空间。
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