[发明专利]用掩膜和无掩膜技术一次成型原子力显微镜探针和悬臂梁有效

专利信息
申请号: 200410066491.6 申请日: 2004-09-17
公开(公告)号: CN1587024A 公开(公告)日: 2005-03-02
发明(设计)人: 李昕欣;韩建强;鲍敏杭;杨恒;沈绍群;王跃林 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;B81C5/00;G12B21/08
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 潘振甦
地址: 200050*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种利用掩膜-无掩膜腐蚀技术实现AFM悬臂梁和探针一次成型的制作方法。其特征在于在腐蚀过程中,探针采用有掩膜腐蚀技术腐蚀,而梁采用无掩膜腐蚀技术腐蚀,当探针针尖的直径达到预定值时,梁的厚度达到设定值。本发明所涉及的各向异性湿法腐蚀工艺一次成型AFM探针和悬臂梁的制作方法具有以下优点。(1)制作工艺简单:仅采用了常规的光刻工艺和湿法各向异性腐蚀工艺,对工艺设备要求较低、简便易行,降低了产品成本,提高了成品率;(2)采用SOI硅片的顶层硅的下表面作为光反射面,与重掺杂自停止腐蚀形成的表面相比更平整,光反射率高;(3)以二氧化硅埋层为腐蚀自停止层,与重掺杂自停止方法相比,对梁厚度的控制更为精确。
搜索关键词: 用掩膜 膜技术 一次 成型 原子 显微镜 探针 悬臂梁
【主权项】:
1.原子力显微镜探针和悬臂梁的一次成型制作方法,其特征在于探针和悬臂梁是通过各向异性湿法腐蚀工艺一次成型,在腐蚀过程中,探针采用有掩膜腐蚀技术腐蚀,而梁采用无掩膜腐蚀技术腐蚀,当针尖的直径达到预定值时,梁的厚度达到设定值。
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