[发明专利]表面修饰的蒙脱土、聚氨酯/蒙脱土纳米复合材料及其制备方法无效
| 申请号： | 200410066151.3 | 申请日： | 2004-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN1644630A | 公开（公告）日： | 2005-07-27 |
| 发明（设计）人： | 吴石山;沈健 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | C09C3/08 | 分类号： | C09C3/08;C08K9/04;C08L75/04 |
| 代理公司： | 南京苏高专利事务所 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 210008*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种表面修饰的蒙脱土、聚氨酯/蒙脱土纳米复合材料及其制备方法。蒙脱土是采用二苯基甲烷二异氰酸酯对有机化蒙脱土表面修饰得到；制备方法：反应瓶中加入有机化蒙脱土和甲苯，搅拌成悬浮液；向反应瓶中通入惰性气体，加入过量的二苯基甲烷二异氰酸酯进行修饰反应；反应产物过滤，用甲苯抽提，干燥，研磨，过筛即得。聚氨酯/表面修饰蒙脱土纳米复合材料的组分和配比(重量)是：聚氨酯90～98％、表面修饰的蒙脱土2～10％；制备方法：将聚氨酯溶解在N，N－二甲基甲酰胺中，加入表面修饰的蒙脱土，搅拌下进行插层，然后用超声波分散，倒入模具，干燥后即得。与聚氨酯/有机化蒙脱土纳米复合材料相比，聚氨酯/表面修饰蒙脱土纳米复合材料表现出更高的拉伸强度和撕裂强度。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 修饰 蒙脱土 聚氨酯 纳米 复合材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种表面修饰的蒙脱土，其特征在于该蒙脱土是采用二苯基甲烷二异氰酸酯对有机化蒙脱土表面羟基修饰而成。
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