[发明专利]曝光装置有效
| 申请号： | 200410063325.0 | 申请日： | 2004-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN1577105A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 宫岛义一 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 何腾云 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供的曝光装置，能抑制基板台(4)上的配管系统引入部的紊乱，抑制从配管的发尘，以及抑制配管部件表面带静电。本发明的曝光装置中，通过投影光学系统(照明系统单元)(1)，把画在原版面上的图形投影到基板上，用台装置(4)使原版和基板双方、或只使基板相对于该投影光学系统移动，把原版的图形反复曝光到基板上。与台装置的可动部连接着的若干个内外径不同的配管，其外周部的一部分相互接合着，形成为一体化的配管列(20)或(21)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.曝光装置，其特征在于，备有投影机构、台装置和曝光机构，上述投影机构，投影画在原版面上的图形；上述台装置，使原版和基板中的至少基板，相对于投影机构移动；上述曝光机构，将上述原版的图形反复曝光到上述基板上；与上述台装置的可动部连接着的若干配管，其各自外周部的一部分相互接合着，成为一体化的配管列。
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