[发明专利]用于平板显示器的像差可校正大视场投影光学系统有效
| 申请号： | 200410061767.1 | 申请日： | 2004-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN1577102A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 罗伯特·D·哈恩德;帕特里克·得·加格;桂程群 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蒋世迅 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于制作平板显示器(FPD)的曝光系统，包括适宜支承掩模版的掩模版台。一个基板台，适宜支承基板。一个反射光学系统，适宜把掩模版成像在基板上。该反射光学系统包括：包含第一反射镜及第二反射镜的主反射镜，和副反射镜。当把掩模版的像通过第一反射镜、副反射镜、和第二反射镜的反射，投射在基板上时，该反射光学系统有足够的自由度用于调整和校正三级像差。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 平板 显示器 差可 校正 视场 投影 光学系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于制作平板显示器(FPD)的曝光系统，包括：适宜支承掩模版的掩模版台；适宜支承基板的基板台；适宜把所述掩模版成像在所述基板上的反射光学系统，所述反射光学系统包括主反射镜和副反射镜，主反射镜包含第一反射镜和第二反射镜，其中，当把掩模版的像通过第一反射镜、副反射镜、和第二反射镜的反射，投射在基板上时，所述反射光学系统有足够的自由度用于调整和校正像差。
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