[发明专利]光刻装置、器件制造方法以及由此制造的器件有效
| 申请号： | 200410054553.1 | 申请日： | 2004-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN1577095A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | K·J·J·M·扎亚尔;T·A·R·范埃佩;J·J·奥坦斯;J·霍普曼 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 光刻投影装置包括：用于提供辐射投影光述的辐射系统；物体固定器，包括限定了突起结构的多个突起，以提供用于支撑设置在所述辐射投影光束的光束路径中的基本上平坦物体的支撑平坦平面，物体固定器包括用于产生静电夹持力的至少一个夹持电极，其用于相对于物体固定器夹持物体。依照本发明，所述至少一个夹持电极包括用于局部改变所述静电夹持力的电场改变结构，其用于使所述基底的局部高度变化平坦。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 以及 由此 | ||
【主权项】：
1、光刻投影装置包括：用于提供辐射投影光束的辐射系统；物体固定器，包括限定了突起结构的多个突起，以提供用于支撑设置在所述辐射投影光束的光束路径中的基本上平坦物体的支撑平坦平面，物体固定器包括用于产生静电夹持力的至少一个夹持电极，其用于相对于物体固定器夹持物体，其特征在于：所述至少一个夹持电极包括用于局部改变所述静电夹持力的电场改变结构，其用于使所述基底的局部高度变化平坦。
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