[发明专利]光刻装置及器件制造方法有效
| 申请号： | 200410054512.2 | 申请日： | 2004-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN1577093A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | A·J·布里克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 通过提供多个激光器并使每个激光器产生的辐射光束混合以形成单独的辐射投影光束，可以提高供无掩模光刻中使用的辐射系统的脉冲对脉冲剂量再现性。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：-用于提供辐射投影光束的辐射系统；-用于赋予投影光束带图案的横截面的可单独控制的元件阵列；-用于支撑基底的基底台；-用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统，其中所述辐射系统包括多个辐射产生单元和混合单元，每个辐射产生单元都产生辐射的子投影光束；混合单元混合每个子投影光束，以形成所述辐射投影光束；以及多个所述的辐射产生单元是容纳于单个壳体中的激光器，它们共用一个公共的产生激光的媒体。
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