[发明专利]光刻装置，器件制造方法及使用该方法制造的器件无效
| 申请号： | 200410047781.6 | 申请日： | 2004-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN1573565A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | R·E·M·L·德维尔德特;J·A·A·T·达姆斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;郑建晖 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻投影装置，包括被动式磁性轴承，其在光刻装置的第一和第二部件之间提供支撑并允许两个部件在垂直于支撑方向的方向上彼此相对地移动。所述被动式磁性轴承包括第一和第二磁体组件，其中每个磁体组件包括至少一个永久磁体。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 使用 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，包括：-用于提供辐射投射光束的辐射系统；-用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投射光束进行构图；-用于保持基底的基底台；和-用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；-用于在第一方向上相对于所述装置的第二部件支撑所述装置的第一部件的轴承，使得第一部件可相对于第二部件移动；-其特征在于：-所述轴承包括被动式磁性轴承。
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