[发明专利]用于镍质硬盘平坦化的多氧化剂基浆料无效
| 申请号： | 200410044646.6 | 申请日： | 2004-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN1550526A | 公开（公告）日： | 2004-12-01 |
| 发明（设计）人： | J·G·埃米恩;刘振东;J·匡希 | 申请（专利权）人： | CMP罗姆和哈斯电子材料控股公司 |
| 主分类号： | C09D1/00 | 分类号： | C09D1/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蔡胜有 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于平坦化衬底上的镍或者镍合金涂层，比如存储硬盘上的镍涂层的浆料组成，包括至少两种氧化剂，一种研磨剂，水，且不含金属催化剂。这种组成对于抛光在存储盘制造中形成的镍和镍合金涂层是有效的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 硬盘 平坦 氧化剂 浆料 | ||
【主权项】：
1.一种用于平坦化衬底上的镍或者镍合金涂层的组成，该组成包括：包含单过硫酸盐的第一种氧化剂；选自过氧化氢，过乙酸，卤酸盐及其任何组合中的第二种氧化剂；且不含金属催化剂。
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