[发明专利]平板印刷设备、器件制造方法和计算机程序有效
| 申请号： | 200410036874.9 | 申请日： | 2004-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN1538245A | 公开（公告）日： | 2004-10-20 |
| 发明（设计）人： | J·M·T·A·阿德里恩斯;M·H·M·比姆斯;E·A·F·范德帕斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06F17/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 程天正;张志醒 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 在干涉位移测量系统中，对光束切变进行修正。该修正可以是与测量光束穿过的光学路径长度以及测量镜的角成比例的变量的多项式。该修正补偿了由测量光束波前的非平面性造成的误差。 | ||
| 搜索关键词： | 平板 印刷 设备 器件 制造 方法 计算机 程序 | ||
【主权项】：
1.一种平板印刷投影设备，包括：辐射系统，用于提供辐射的投影光束；支撑结构，用于支撑构图装置，该构图装置用于根据期望的图形来构图投影光束；基板台，用于保持基板；投影系统，用于将被构图的光束投影到基板的目标部分上；干涉位移测量系统，用于测量所述设备的可移动部件的位移且包括将传感器的测量与所述可移动部件位移相关的模型，其特征在于：所述模型包含至少一个修正项，该修正项是表示干涉位移测量系统的测量光束的光束切变的变量的函数。
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