[发明专利]晶体加工废砂处理方法无效
申请号: | 200410034004.8 | 申请日: | 2004-04-21 |
公开(公告)号: | CN1689718A | 公开(公告)日: | 2005-11-02 |
发明(设计)人: | 尹克胜 | 申请(专利权)人: | 尹克胜 |
主分类号: | B09B3/00 | 分类号: | B09B3/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 27670*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种晶体加工废砂处理方法,把晶体加工过程中形成的混有切削液、铁及铁氧化物、晶体粉末SiO2、磨料碳化硅SiC、晶体碎屑等成分的废砂,经工序1清除其中的油性切削液后,在工序2筛分清除其中的晶体碎屑等大颗粒杂质,进入工序3进行碱洗反应,清除其中的SiO2,经工序4水洗调整pH值后,在工序5酸洗除去其中的铁及铁氧化物,反应液经中和池9中和处理后排放,沉淀物经工序6水洗分级,工序7干燥,工序8包装计量后,成为高价值的碳化硅SiC材料。 | ||
搜索关键词: | 晶体 加工 处理 方法 | ||
【主权项】:
1、一种晶体加工废砂处理方法,把晶体加工中形成的混有切削液、铁及铁氧化物、晶体粉末SiO2、磨料碳化硅SiC、晶体碎屑等组分的废砂,利用其不同的物理化学性质进行分离提纯生产合格的SiC材料,其特征在于:首先在除油工序清除废砂中的油性切削液;再筛分去除其中的晶体碎屑等大颗粒杂质,之后在酸洗工序加酸清除其中的铁及铁氧化物,对其中的SiO2则加入氢氟酸进行化学反应进行清除,或加入NaOH进行碱洗反应脱除;反应液经中和处理后排放;沉淀物经水洗分级、干燥、包装计量得到合格的碳化硅(SiC)材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于尹克胜,未经尹克胜许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410034004.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种快速更换移动终端外屏墙纸的方法
- 下一篇:贴压夹