[发明专利]光阻剥离制程与光阻剥离装置无效
| 申请号： | 200410028146.3 | 申请日： | 2004-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN1722002A | 公开（公告）日： | 2006-01-18 |
| 发明（设计）人： | 黄志鸿 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 为解决现有技术光阻剥离制程铝侵蚀现象严重、良率较低及生产成本较高的问题，本发明提供一种光阻剥离制程，包括以下步骤：湿清洗基底以剥离光阻；高速传送基底，同时利用液刀(Aqua Knife)冲洗基底。本发明还提供一种光阻剥离装置，可应用于半导体制程的光阻剥离步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 剥离 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光阻剥离制程，包括以下步骤：湿清洗基底以剥离光阻；高速传送基底，同时利用液刀冲洗基底。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司，未经鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200410028146.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
