[发明专利]信息记录薄膜材料及其制备方法无效
申请号: | 200410026489.6 | 申请日: | 2004-03-15 |
公开(公告)号: | CN1564253A | 公开(公告)日: | 2005-01-12 |
发明(设计)人: | 周照耀 | 申请(专利权)人: | 周照耀 |
主分类号: | G11B7/26 | 分类号: | G11B7/26 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 | 代理人: | 杨晓松 |
地址: | 510640广东省广州市天*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种信息记录薄膜材料制备方法,包括下述步骤:(1)加工基片;(2)在基片的表面上形成薄膜;(3)在基片表面的薄膜上覆盖上光刻胶;(4)用刻录机在基片上曝光刻录出斑点阵列;(5)将刻录有斑点阵列的基片显影;(6)对显影后的基片进行刻蚀,在基片表面形成可以进行信息记录的柱状微凸起阵列薄膜层。本发明所使用的设备简单,操作步骤比较方便,制造效率较高,工艺过程容易控制,制造成本低,适合大批量生产应用,所制备的信息记录薄膜材料重复读写的次数没有限制,可以提高信息存储的可靠性及信息传递的速度,应用范围非常广泛,市场前景较好。 | ||
搜索关键词: | 信息 记录 薄膜 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种信息记录薄膜材料制备方法,其特征在于包括下述步骤:(1)加工基片;(2)在基片的表面上形成薄膜;(3)在基片表面的薄膜上覆盖上光刻胶;(4)用刻录机在基片上曝光刻录出斑点阵列;(5)将刻录有斑点阵列的基片显影;(6)对显影后的基片进行刻蚀,在基片表面形成可以进行信息记录的柱状微凸起阵列薄膜层。
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