[发明专利]光刻装置及器件制造方法无效
| 申请号： | 200410012023.0 | 申请日： | 2004-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN1612043A | 公开（公告）日： | 2005-05-04 |
| 发明（设计）人： | B·L·W·M·范德文;E·L·哈姆 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻装置，包括用于提供辐射投射光束的照射系统、用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于赋予投射光束带图案的横截面、不漏颗粒的储存容器，其限定用于储存构图结构的储存空间，其中将储存容器设置成与输送容器耦合，以使输送容器通过其与储存容器之间的可闭合通道在输送容器与光刻装置之间交换构图结构、用于保持基底的基底台、用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影系统。此外，本发明涉及一种使用这种装置的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：用于提供辐射投射光束的照射系统；用于支撑构图结构的支撑结构，所述构图结构用于给投射光束的横截面赋予图案；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影系统，不漏颗粒的储存容器，其限定用于容纳至少一个构图结构的储存空间，其中将储存容器设置成与输送容器耦合，以通过输送容器和储存容器之间的可闭合通道交换构图结构；以及真空室，用于通过储存容器或从储存容器接收构图装置。
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