[发明专利]曝光方法和装置无效
| 申请号： | 200410011486.5 | 申请日： | 2004-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN1637606A | 公开（公告）日： | 2005-07-13 |
| 发明（设计）人： | 時田俊伸 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 许海兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种曝光方法，其特征在于：包括在被曝光体的表面以及投影光学系统的最终面之间导入液体的步骤；使配置在所述被曝光体的表面以及投影光学系统的最终面之间的所述液体的界面变位的步骤；把在掩膜上形成的图案通过所述投影光学系统以及所述液体投影到所述被曝光体上的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光方法，其特征在于包括：在被曝光体的表面以及投影光学系统的最终面之间导入液体的步骤；使配置在所述被曝光体的表面以及投影光学系统的最终面之间的所述液体的界面变位的步骤；把在掩模形成的图案通过所述投影光学系统以及所述液体投影到所述被曝光体上的步骤。
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