[发明专利]采用全息光学元件的激光干涉光刻方法及其光刻系统无效
| 申请号： | 200410009038.1 | 申请日： | 2004-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN1690857A | 公开（公告）日： | 2005-11-02 |
| 发明（设计）人： | 张锦;冯伯儒 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B23K26/00;G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 刘秀娟;成金玉 |
| 地址： | 610209*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 采用全息光学元件的激光干涉光刻方法，其特征在于：采用全息光学元件作为光束振幅分割元件将入射其上的激光束分成强度近似相等且分开角度的两光束，经反射使它们相交，在相交重叠区对抗蚀剂基片进行曝光产生高分辨光栅，形成微细干涉图形，全息光学元件为产生三光束、或四光束、或五光束的全息光学元件，或计算机产生的全息图、或衍射光学元件，实现上述方法的激光干涉光刻系统，由波长为λ激光器、扩束准直器、定时快门、可变密度中性滤光片、全息光学元件、可调光阑、全反射镜、光衰减器、基片及电控转动机构组成。本发明由于全息光学元件制作容易，重量轻，易于按不同角度要求制作，以适应不同需求，费用省，对减小激光干涉光刻系统尺寸、重量和成本具有重要意义和应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 全息 光学 元件 激光 干涉 光刻 方法 及其 系统 | ||
【主权项】：
1、采用全息光学元件的激光干涉光刻方法，其特征在于：采用全息光学元件作为光束振幅分割元件将入射其上的激光束分成强度近似相等且分开角度的两光束，经反射使它们相交，在相交重叠区对抗蚀剂基片进行曝光产生高分辨光栅，形成微细干涉图形。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电技术研究所，未经中国科学院光电技术研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200410009038.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
