[发明专利]微透镜阵列的制造方法

摘要

本发明公开了一种制造微透镜阵列的方法，在该方法中，形成在透明基底上的正性抗蚀剂层经曝光和显影形成以预定距离彼此靠近分布的圆形抗蚀剂图案。该曝光图案具有一个环绕着多个抗蚀剂图案且由多个圆环形构成的开口。该开口具有等于一定距离的宽度。由于开口的宽度在每个抗蚀剂图案的整个外周边都是相同的，因此可以在周边上的所有位置实现均匀曝光，进而形成理想的圆形。在加热和软熔使抗蚀剂图案成为凸透镜形状之后，以抗蚀剂图案作为掩模实施干刻，将所述凸透镜形状转移到基底上，从而形成具有凸透镜的微透镜阵列。

主权项

1.一种制造微透镜阵列的方法，包括以下步骤：在透明基底的一个主表面上形成正性抗蚀剂层；对所述正性抗蚀剂层进行曝光和显影处理，以形成多个按预定距离彼此靠近分布的圆形抗蚀剂层，其中用可以形成围绕所述多个抗蚀剂层的圆环形开口的曝光图案实施曝光处理，且随后进行显影处理；通过加热和软熔处理为所述多个抗蚀剂层中的每一个赋予凸透镜的形状；以及通过干刻处理将所述多个抗蚀剂层中每一个的凸透镜形状转移到所述透明基底的主表面上，以在所述透明基底的主表面上形成具有与所述多个抗蚀剂层对应的圆形凸透镜的微透镜阵列。