[发明专利]氢分离用钯基合金/孔径梯度钛铝金属间化合物均质支撑体的过滤膜的制备方法无效
| 申请号: | 200410003041.2 | 申请日: | 2004-01-13 |
| 公开(公告)号: | CN1640527A | 公开(公告)日: | 2005-07-20 |
| 发明(设计)人: | 贺跃辉;江垚;林小芹;汤义武;徐南平;高海燕;张启修 | 申请(专利权)人: | 中南大学 |
| 主分类号: | B01D69/10 | 分类号: | B01D69/10;B01D71/02 |
| 代理公司: | 中南大学专利中心 | 代理人: | 袁翔 |
| 地址: | 410083*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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| 摘要: | 本发明涉及半渗透膜的生产,用于分离工艺的半透膜的专用制备方法。它通过模压或冷等静压,将Ti、Al元素粉末直接与Ti箔或Al箔复合成形片状或管状坯,或者先通过模压或冷等静压将Ti、Al元素粉末成形为片状坯或管状坯,然后通过Al液表面熔浸的方式制成复合成形坯;再通过低温预反应和高温短时反应两阶段真空烧结合成法,制备TiAl金属间化合物孔径梯度均质支撑体,随后,在其表面,采用化学或物理气相沉积(CVD或PVD)的方式,均匀镀上一层钯基合金膜,厚度为5~50μm。由此制得的膜具有良好的抗氧化性能、抗腐蚀性能和力学性能,提高了氢分离膜的渗透通量和使用寿命;其TiAl支撑体还可直接用作性能优异的微滤膜和纳滤膜。本发明制备过程不需要添加造孔剂,降低了能耗,几乎无污染。 | ||
| 搜索关键词: | 分离 用钯基 合金 孔径 梯度 金属 化合物 支撑 滤膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.氢分离用钯基合金/孔径梯度钛铝金属间化合物均质支撑体的过滤膜的制备方法,向氢分离用钯基合金膜支撑体中引入物理性能及力学性能优异的TiAl金属间化合物,以制备氢分离用钯基合金/孔径梯度钛铝金属间化合物均质支撑体的过滤膜的方法,其特征在于:A.混料:以粒径200~10μm的Ti粉,粒径200~5μm的Al粉,按照50~60at.%Ti,40~50at.%Al的成分配比进行均匀混合;B.复合成形:①采用模压成形或冷等静压成形的方式,将Ti、Al元素粉末直接与Ti箔或Al箔复合成形,制成片状或管状坯,具体过程为:将Ti箔或Al箔置于普通模压机的冲头端部,并与Ti、Al元素混合粉末直接接触,通过模压成形制得片状坯,模压压强为50~600MPa;或者采用冷等静压成形方式,压强为50~200MPa,芯杆成一定锥度,锥度为0.1~2°,将Ti箔或Al箔置于芯杆外侧并与之紧密接触,同时与Ti、Al元素混合粉末直接接触,通过冷等静压成形方式制得管状坯,Ti箔或Al箔的厚度为10~50μm,脱模后对冷等静压坯外径进行少量机加工,制成外径均匀,内径略成锥度,厚度为1~3mm的管状成形坯;②或者先将Ti、Al元素粉末模压成形或冷等静压成形为片状或管状坯,然后通过Al液表面熔浸的方式制成复合成形坯,Al液表面熔浸温度为670~900℃,熔浸时间为0.1~10min,熔浸层厚度为0.01~0.5mm。C.反应合成:通过低温预反应和高温短时反应两阶段真空烧结合成法,制备TiAl金属间化合物孔径梯度均质过滤膜,采用真空无压烧结时,真空度为1×10-1~1×10-3Pa,低温预反应阶段的温度为500~800℃,时间为20~60分钟;高温短时反应阶段的温度为1200~1400℃,时间为10~30分钟;冷却阶段,控制降温速度为10~50℃/min。或者通过低压热等静压进行反应合成,压强为0.01~5MPa,低温预反应阶段的温度为500~800℃,时间为20~40分钟;高温短时反应阶段的温度为1200~1300℃,时间为10~20分钟;冷却阶段,控制降温速度为10~50℃/min。获得孔径梯度TiAl金属间化合物均质支撑体;D.TiAl金属间化合物均质支撑体表面,采用化学或物理气相沉积(CVD或PVD)的方法,均匀镀上一层钯基合金膜,厚度为5~50μm,组合成氢分离用钯基合金/孔径梯度TiAl金属是化合物均质支撑体的过滤膜。
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