[发明专利]在对含烃地层进行就地热处理过程中的分阶段和/或阵列式加热有效
| 申请号： | 200380104380.3 | 申请日： | 2003-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN1717531A | 公开（公告）日： | 2006-01-04 |
| 发明（设计）人： | H·J·维尼格;J·M·卡拉尼卡斯;K·S·汉森 | 申请（专利权）人： | 国际壳牌研究有限公司 |
| 主分类号： | E21B43/24 | 分类号： | E21B43/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蒋旭荣 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于对含烃地层进行处理的方法。用于对含烃地层进行处理的这一方法包括操作：利用第一组加热器(158)对第一体积(162)的地层进行加热。可利用第二组加热器(158)对第二体积(164)的地层进行加热。利用一第三体积的地层将第一体积地层与第二体积地层分隔开。第一、第二、和/或第三体积地层的尺寸、形状、和/或位置被设计成能抑制地下设备的变形，该变形是由地层在加热过程中产生地质力学运动所致。 | ||
| 搜索关键词： | 地层 进行 就地 热处理 过程 中的 分阶段 阵列 加热 | ||
【主权项】：
1.一种用于对含烃地层进行处理的方法，其包括步骤：利用第一组加热器对第一体积的地层进行加热；以及利用第二组加热器对第二体积的地层进行加热，其中，利用一第三体积的地层将第一体积地层与第二体积地层分隔开，且第一、第二、和第三体积地层的尺寸、形状、和/或位置被设计成能抑制地下设备的变形，该变形是由地层在加热过程中产生地质力学运动所致。
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