[实用新型]高温反应烧结炉无效
申请号: | 200320103509.6 | 申请日: | 2003-11-21 |
公开(公告)号: | CN2674295Y | 公开(公告)日: | 2005-01-26 |
发明(设计)人: | 谢晶 | 申请(专利权)人: | 北京七星华创电子股份有限公司 |
主分类号: | F23B7/00 | 分类号: | F23B7/00 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郑立明 |
地址: | 100016*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种高温反应烧结炉,尤其涉及一种半导体、冶金及其它行业的热处理真空工艺处理中应用的高温反应烧结炉。其结构由炉体、反应室、送料装置与旋转装置和废气处理装置组成;本实用新型所述的高温反应烧结炉,在原有炉体结构中增加了反应室,反应室位于炉体内部,与炉腔分开;可以节约工艺气体,不会在炉壁上产生结晶,影响高温烧结炉的性能。在送料装置上增加了旋转装置,使工件在处理过程中持续旋转,让工件受热均匀,与工艺气体接触均匀,提高产品质量。又增加了废气处理装置,对产生的废气进行处理,减少对环境制成的污染。 | ||
搜索关键词: | 高温 反应 烧结炉 | ||
【主权项】:
1、一种高温反应烧结炉,其特征在于由炉体、反应室与送料装置组成;反应室位于炉体内部,送料装置位于反应室在炉体上的开口处外端。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京七星华创电子股份有限公司,未经北京七星华创电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200320103509.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。