[发明专利]检验方法及器件制造方法无效
| 申请号： | 200310120946.3 | 申请日： | 2003-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN1499293A | 公开（公告）日： | 2004-05-26 |
| 发明（设计）人： | M·杜萨;A·J·登博夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 黄力行 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 为了加强由两成分测试图案构成的散射测量，对应于两成分图案中每一成分的参考图案也被印制。散射测量信号从参考图案获取，对应于测试图案的各个成分，并且用于增强来自测试图案的信号，从而提高灵敏度和信噪比。 | ||
| 搜索关键词： | 检验 方法 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种检验方法包括：利用光刻装置将测试图案印制到基底上，该测试图案包括第一和第二图案成分的组合，所述第一图案成分与所述第二图案成分不同；利用光刻装置将第一和第二参考图案印制到所述基底上，所述第一和第二参考图案分别对应于所述第一和第二图案成分；利用散射计测量所述测试图案以及所述第一和第二参考图案的第一，第二和第三反射光谱；和由所述第一、第二和第三反射光谱得到表示所述基底上所述测试图案的参数的信息。
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