[发明专利]制造稳定的掺氟氧化硅薄层的方法、制成的薄层及其在眼科光学中的应用有效
| 申请号： | 03823900.0 | 申请日： | 2003-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN1688739A | 公开（公告）日： | 2005-10-26 |
| 发明（设计）人： | K·谢勒;P·拉康;P·鲁瓦松;R·博斯曼 | 申请（专利权）人： | 埃西勒国际通用光学公司 |
| 主分类号： | C23C14/10 | 分类号： | C23C14/10;G02B1/11;G02B1/10 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;黄革生 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明的方法涉及在SiOxFy层上形成通过下述两种方法制得的二氧化硅SiO2和/或金属氧化物保护层：通过离子束辅助的气相沉积法，包括用由稀有气体、氧气或两种或多种这类气体的混合物形成的阳离子束轰击形成的层；或通过阴极溅射硅层或金属层然后对硅层或金属层进行氧化步骤的方法。本发明可用于制造抗反射涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 稳定 氧化 薄层 方法 制成 及其 眼科 光学 中的 应用 | ||
【主权项】：
1.一种制造稳定的SiOxFy掺氟氧化硅薄层的方法，其特征在于该方法包括通过下述方法在SiOxFy氟氧化硅层上形成SiO2二氧化硅和/或金属氧化物保护层：通过离子束辅助的气相沉积法，其包括用由稀有气体、由氧气或由两种或多种这类气体的混合物形成的阳离子束轰击形成的层；或通过阴极溅射金属层或硅层然后对沉积的金属层或硅层进行氧化步骤的方法。
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