[发明专利]聚酯薄膜及气体阻隔性聚酯薄膜无效
申请号: | 03805512.0 | 申请日: | 2003-01-14 |
公开(公告)号: | CN1639260A | 公开(公告)日: | 2005-07-13 |
发明(设计)人: | 田中裕之;松井良辅;桥本幸吉 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
主分类号: | C08L67/02 | 分类号: | C08L67/02;B32B27/36;C08G63/672;C08J5/18 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 高龙鑫;经志强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 为了得到不仅可原样保持作为聚酯薄膜特长的低吸湿性、尺寸稳定性、平面性、透明性,具有优良耐冲击性、耐弯曲气孔性,而且,在金属或金属氧化物蒸镀时具有优良的气体阻挡性的聚酯薄膜,由以对苯二甲酸乙二醇酯作为主要重复单元的聚酯A 70~97重量%;和以对苯二甲酸丁二醇酯作为主要重复单元的聚酯B 3~30重量%加以混合构成,熔点245~270℃的聚酯薄膜,或由含对苯二甲酸丁二醇酯成分60~90重量%和对苯二甲酸丁二醇酯成分10~40重量%以及聚氧化亚烷基乙二醇成分0.1~5重量%的聚酯树脂构成的聚酯薄膜。该聚酯薄膜作为食品包装用等是优选的。 | ||
搜索关键词: | 聚酯 薄膜 气体 阻隔 | ||
【主权项】:
1.一种聚酯薄膜,其由70~97重量%的以对苯二甲酸乙二醇酯作为主要重复单元的聚酯A和3~30重量%的以对苯二甲酸丁二醇酯作为主要重复单元的聚酯B混合而成,其熔点为245~270℃。
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