[发明专利]光学应用薄膜,使用此薄膜的发光结构及其制造方法无效

专利信息
申请号: 03802967.7 申请日: 2003-01-29
公开(公告)号: CN1625706A 公开(公告)日: 2005-06-08
发明(设计)人: 慎重勋;徐世永;韩学承 申请(专利权)人: 光神有限会社
主分类号: G02B6/10 分类号: G02B6/10
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 代理人: 周建秋
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及光学应用薄膜,使用此薄膜的发光结构及其制造方法。本发明提供一种光学应用二氧化硅或二氧化硅基薄膜,其中共掺有硅纳米团簇和稀土元素。硅纳米团簇的平均尺寸小于3nm,稀土元素的浓度小于0.1原子数%。在薄膜中,稀土元素与硅纳米团簇的浓度比控制在1到10的范围内。薄膜通过利用硅纳米团簇中电子—空穴重新组合激发稀土元素而发光。根据本发明,对诸如硅纳米团簇的尺寸和浓度、稀土元素的浓度以及它们的浓度比等条件进行特别的优化,以制造性能更好的光学装置。
搜索关键词: 光学 应用 薄膜 使用 发光 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种共掺有硅纳米团簇和稀土原子的光学装置用二氧化硅或二氧化硅基薄膜,其特征在于硅纳米团簇的平均尺寸为3nm或小于3nm;稀土原子的浓度为0.1原子数%或小于0.1原子数%;以及稀土原子与硅纳米团簇的浓度比为1到10,薄膜通过利用硅纳米团簇中形成的电子—空穴组合激发稀土原子而发光。
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