[发明专利]从备有流量控制装置的气体供给设备向腔室的气体分流供给方法有效
申请号: | 03800777.0 | 申请日: | 2003-01-20 |
公开(公告)号: | CN1543596A | 公开(公告)日: | 2004-11-03 |
发明(设计)人: | 杉山一彦;池田信一;西野功二;土肥亮介;上野山丰己 | 申请(专利权)人: | 株式会社富士金;东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | G05D7/06 | 分类号: | G05D7/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张天安;郑建晖 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 将可以从备有流量控制装置的气体供给设备正确且迅速地按所需要的流量比Q1/Q2向腔室内分流供给规定流量Q的处理气体。具体地说,从备有流量控制装置的气体供给设备通过多个分支供给线和固定于其末端的喷淋板按规定的流量比Q1/Q2向减压的腔室(C)内分流供给规定流量Q的气体之际,在前述多个分支供给线(GL1、GL2)上加装压力式分流量控制器(FV1、FV2),并且靠来自使流量大的一方的压力式分流量控制器的控制阀(CV)的开度全开的分流量控制盘(FRC)的初期流量设定信号,开始前述两个分流量控制器(FV1、FV2)的开度控制,通过分别调整前述控制阀(CV)的下游侧压力P3′、P3″,通过设在喷淋板(3、4)上的节流孔(3a、4a),按由式Q1=C1P3′和Q2=C2P3″(式中,C1、C2是取决于节流孔的断面积或节流孔上游侧的气体温度的常数)表达的所需要的分流量Q1、Q2向前述腔室(C)内分流供给总量Q=Q1+Q2的气体。 | ||
搜索关键词: | 备有 流量 控制 装置 气体 供给 设备 分流 方法 | ||
【主权项】:
1.一种从备有流量控制装置的气体供给设备向腔室的气体分流供给方法,从备有流量控制装置的气体供给设备(1),通过多个分支供给线(GL1、GL2)和固定于其末端的喷淋板(3、4),向腔室(C)内以规定的流量比Q2/Q1分流供给规定流量Q的气体(G),其特征在于,在前述多个分支供给线(GL1、GL2)上加装压力式分流量控制器(FV1、FV2),并且靠来自使供给流量大的一方的压力式分流量控制器的控制阀(CV)的开度全开的分流量控制盘(FRC)的初期流量设定信号,开始前述两个分流量控制器(FV1、FV2)的开度控制,通过分别调整前述控制阀(CV)的下游侧压力P3′、P3″,通过设在喷淋板(3、4)上的节流孔(3a、4a),以由式Q1=C1P3′和Q2=C2P3″(式中C1、C2是取决于节流孔的断面积或节流孔上游侧的气体温度的常数)所表达的所希望的分流量Q1、Q2向前述腔室(C)内分流供给总量Q=Q1+Q2的气体。
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