[实用新型]用于纳米转印的平行度调整装置无效
| 申请号： | 03257537.8 | 申请日： | 2003-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN2612536Y | 公开（公告）日： | 2004-04-21 |
| 发明（设计）人： | 钟永镇;林家弘;许嘉峻;陈钏锋;冯文宏;陈明祈 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | B41M5/26 | 分类号： | B41M5/26;B30B15/00 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种用于纳米转印的平行度调整装置包括具有一第一模板与固定在该第一模板上的模具的转印单元；具有第二模板与固定在该第二模板上的基板的承载单元；一平行度调整机构至少与该第一模板或第二模板其中之一接置，它包括一密闭弹性膜及其包覆的流体；以及一驱动源用以驱动至少该转印单元或承载单元两者中的一个，令该转印用模具与该可成形材料层接触从而进行转印，并借此使该平行度调整机构受压，调整该转印用模具与基板之间的转印平行度与施压的均匀性，进而大幅提升该纳米转印的成形品质。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 纳米 平行 调整 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于纳米转印的平行度调整装置，其特征在于，该装置包括：转印单元，至少具有一第一模板与固定在该第一模板上的转印用模具；承载单元，至少具有一第二模板与固定在该第二模板上、且涂布有可成形材料层的基板；平行度调整机构，包括一密闭弹性膜及其包覆的流体，并至少与该第一模板与第二模板两者中的一个接置；以及驱动源，至少驱动该转印单元与承载单元两者中的一个，令该转印用模具与该可成形材料层接触进行转印，并借其接触使该平行度调整机构受压，调整该转印用模具与该基板间的转印平行度。
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