[发明专利]辐射源、光刻设备和器件制造方法无效
| 申请号： | 03164931.9 | 申请日： | 2003-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN1498056A | 公开（公告）日： | 2004-05-19 |
| 发明（设计）人： | G·G·祖卡维斯维里;V·V·艾瓦诺夫;K·N·科谢勒夫;E·D·科罗布;V·Y·班尼;P·S·安特斯菲罗夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种包括阳极和阴极的辐射源，所述阳极和阴极被配置和排列为在所述阳极和阴极之间的物质中产生放电形成等离子体从而产生电磁辐射。所述流体包括氙、铟、锂、锡或任何适合的材料。辐射源单元设置为具有低感应系数，并运行于等离子体最小的状态来提高转换效率。在辐射源体积和芯捻内设有流体循环系统，应用流体的气态和液态转换来提高热耗散。辐射源单元设置得产生最小量的污染物，并在不干扰出射辐射的情况下捕获污染物来防止污染物进入光刻投影装置。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射源 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种包括阳极和阴极的辐射源，所述阳极和阴极被配置和排列为在所述阳极和阴极之间的物质中产生放电形成等离子体从而产生电磁辐射，其特征在于，限定所述放电空间的壁的芯捻表面区域具有将与所述芯捻表面区域相接触的液体从液体容器向所述放电空间传输的芯捻功能。
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