[发明专利]湿蚀刻装置有效
| 申请号： | 03145140.3 | 申请日： | 2003-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN1567094A | 公开（公告）日： | 2005-01-19 |
| 发明（设计）人： | 林祺桉;郭国鸿;官大新;骆伯一;杨名显 | 申请（专利权）人： | 统宝光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;H01L21/027;G02F1/1345 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陈小霁;李晓舒 |
| 地址： | 台湾省新*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种湿蚀刻装置，至少包括：一第一储存槽，用以储存一作为湿蚀刻反应用的化学物质的第一液体；一过滤器(filter)，包括至少一滤芯，连接上述第一储存槽，用以过滤上述第一液体中的杂质；一第二储存槽，连接上述过滤器且与上述第一储存槽呈并联状态，用以储存一第二液体；一反应室，连接上述过滤器，在上述反应室内进行湿蚀刻反应；一排液组件，连接上述过滤器，与上述反应室呈并联状态，一第一泵(pump)，将上述第一液体经由上述过滤器，运送至上述反应室；以及一第二泵，将上述第二液体经由上述过滤器，运送至上述排液组件，将上述第二液体排出上述湿蚀刻装置。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 装置 | ||
【主权项】：
1.一种湿蚀刻装置，至少包括：一第一储存槽，用以储存一作为湿蚀刻反应用的化学物质的第一液体；一过滤器(filter)，包括至少一滤芯，连接该第一储存槽，用以过滤该第一液体中的杂质；一第二储存槽，连接该过滤器且与该第一储存槽呈并联状态，用以储存一第二液体；一反应室，连接该过滤器，在该反应室内进行湿蚀刻反应；一排液组件，连接该过滤器，与该反应室呈并联状态，一第一泵(pump)，将该第一液体经由该过滤器，运送至该反应室；以及一第二泵，将该第二液体经由该过滤器，运送至该排液组件，将该第二液体排出该湿蚀刻装置。
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