[发明专利]合成高分子膜用表面处理剂、该膜的表面处理方法及表面处理的该膜

摘要

本发明提供不破坏合成高分子薄膜本来的物性，可对该合成高分子薄膜赋予优异的防带静电性及防雾性，同时也能赋予优异滑动性的合成高分子薄膜用表面处理剂、合成高分子薄膜的表面处理方法以及赋予了这些特性的表面处理合成高分子薄膜。作为合成高分子薄膜用表面处理剂，使用了由侧链有含氮有机基的特定的乙烯基共聚物和润滑剂构成、且按规定比例含有它们而成的表面处理剂。

主权项

1.一种合成高分子薄膜用表面处理剂，其特征在于，由下述的乙烯基共聚物和下述的润滑剂构成，且按该乙烯基共聚物/该润滑剂＝30/70～90/10的重量比比例含有它们而成，其中，乙烯基共聚物：按由下述式1表示的乙烯基单体形成的构成单元10～60重量％、由可与式1表示的乙烯基单体共聚的其他的乙烯基单体形成的构成单元40～90重量％(合计100重量％)的比例含有它们的数均分子量10000～100000的乙烯基共聚物，[式1]在式1中，R¹：氢原子或甲基R²：C₁～C₄的亚烷基R³，R⁴：C₁～C₆的烷基；润滑剂：从有机羧酸、有机羧酸盐、有机羧酸酯、有机羧酸酰胺、聚乙烯蜡、硅油、二氧化硅粒子、硅树脂粒子及滑石粉中选出的一种或两种以上。