[发明专利]曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 03121815.6 | 申请日： | 2003-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN1452017A | 公开（公告）日： | 2003-10-29 |
| 发明（设计）人： | 白户章仁;白数广;加藤正纪 | 申请（专利权）人： | 尼康株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/22 | 分类号： | G03F7/22;G03F9/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供可将投影光学系统的成像位置及像面高精度且连续地变更调整、精度良好地曝光处理的曝光装置及曝光方法。曝光装置(EX)是一种一面将由曝光光照明的光罩(M)和感光基板(P)同步移动一面将光罩M的图案像通过投影光学系统(PL1～PL5)投影曝光于感光基板(P)的扫描型曝光装置，在曝光光的光路上具备有使图案的像面的位置在(Z)轴方向调整，同时调整图案像的像面倾斜的像面调整装置(10)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，该曝光装置一面同步移动由曝光光照明的一光罩和一感光基板，一面将该光罩的图案成像通过投影光学系统投影曝光于该感光基板，其特征在于：具备有位于该光罩和该感光基板之间的曝光光的光路上，在将该图案的像面的位置调整向与该像面直交的方向的同时调整该图案成像的像面倾斜的一像面调整装置。
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