[发明专利]半透明三元乙丙橡胶/蒙脱土插层纳米复合材料及其制备方法无效
| 申请号： | 03114807.7 | 申请日： | 2003-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN1425710A | 公开（公告）日： | 2003-06-25 |
| 发明（设计）人： | 郑华;张勇;彭宗林;张隐西 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C08L23/16 | 分类号： | C08L23/16;C08K5/17 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 | 代理人： | 毛翠莹 |
| 地址： | 200030*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种半透明三元乙丙橡胶/蒙脱土插层纳米复合材料及其制备方法，其制备方法是将蒙脱土经过阳离子交换反应后，与三元乙丙橡胶进行熔融共混，最后加入液体或熔融的过氧化物硫化剂进行硫化。本发明中的纳米复合材料的力学性能、光学性能随着有机蒙脱土在聚合物基质中分散程度的改善而明显提高。 | ||
| 搜索关键词： | 半透明 三元乙丙橡胶 蒙脱土插层 纳米 复合材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1半透明三元乙丙橡胶/蒙脱土插层纳米复合材料包括三元乙丙橡胶和蒙脱土，其特征在于所述的复合材料的原料组分和含量如下：(重量份)三元乙丙橡胶100蒙脱土0.5-20阳离子改性剂0.1-15质子化剂1-20分散介质100-1100硫化剂0.5-3.0所述的复合材料中蒙脱土粒径为50-100μm，其阳离子交换容量为50-120meq/100g。
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