[发明专利]氧化钛光催化剂薄膜及该氧化钛光催化剂薄膜的制造方法有效
| 申请号： | 03102079.8 | 申请日： | 2003-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN1435276A | 公开（公告）日： | 2003-08-13 |
| 发明（设计）人： | 大津茂実;丸山达哉;圷英一;桥本和仁 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社;株式会社先端科学技术孵化中心 |
| 主分类号： | B01J21/06 | 分类号： | B01J21/06;B01J37/02 |
| 代理公司： | 北京德琦专利代理有限公司 | 代理人： | 宋志强 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种氧化钛光催化剂薄膜，是表面层含有氧化硅和氧化钛层的氧化钛光催化剂薄膜。以及，一种具有包含氧化硅和氧化钛的表面层的氧化钛光催化剂薄膜的制造方法，其特征在于，它具有在形成氧化钛薄膜的衬底材料上，在含硅化合物的存在下，以及在真空或气体气氛中，一边加热衬底材料，一边在氧化钛薄膜上照射受激准分子光的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 光催化剂 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种氧化钛光催化剂薄膜，其特征在于，该薄膜具有含氧化硅和氧化钛的表面层。
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