[发明专利]光刻模板有效
| 申请号： | 02806953.6 | 申请日： | 2002-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN1514955A | 公开（公告）日： | 2004-07-21 |
| 发明（设计）人： | 多尔·J·莱斯尼克;凯文·J.·诺得奎斯特 | 申请（专利权）人： | 摩托罗拉公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种半导体器件、微电子器件、微机电器件和微射流器件，尤其涉及一种光刻模板、一种制作这种光刻模板的方法和一种采用这种光刻模板制作器件的方法。所述的光刻模板(20，30，42)具有一个基板(22，32)和一个模板基座(24，34)，所述的模板基座在最上表面形成有一个蚀刻图形或浮凸图像(26，36，48)。所述的模板(20，30，42)用于制作一种半导体器件(44)从而使器件(44)中的图形感光，其方法在于：把所述模板(20，30，42)与其上具有辐照敏感材料(50)的半导体器件(44)邻近放置，且施加压力(52)以使所述的辐照敏感材料(50)流入所述模板(42)上已有的浮凸图像，然后所施加的辐照穿过所述模板(42)固化部分所述的辐照敏感材料(50)，从而在所述的辐照敏感材料(50)上限定出所述图形。然后，移走所述模板(20，30，42)，从而完成了所述半导体器件(44)的制作。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 模板 | ||
【主权项】：
1.一种制作光刻模板的方法，包括以下步骤；提供基板，所述的基板具有一个最上表面，且在所述的最上表面限定一个模板基座，其中在所述模板基座的最上表面上形成一个蚀刻图形。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于摩托罗拉公司，未经摩托罗拉公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02806953.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：半导体封装件及其制造方法
- 下一篇：厚膜型光致抗蚀剂及其使用方法
