[发明专利]光学记录还原介质,制造光学记录还原介质的母盘模片,和光学记录还原装置无效
| 申请号： | 02802462.1 | 申请日： | 2002-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN1465054A | 公开（公告）日： | 2003-12-31 |
| 发明（设计）人： | 远藤惣铭;永野信广;中野淳 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李德山 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 光学记录还原介质具有沿着记录轨道形成的凹槽(2)，并且通过照射具有预定波长λ的光可以对光学记录还原介质进行记录和/或还原。当假定n表示从光入射端面延伸到光学记录还原介质的凹槽(2)的介质的折射系数时，凹槽(2)的相位深度x满足以下不等式：λ/16.14n≤x≤λ/4.99n并且所述凹槽(2)的宽度w和轨道间距p之间的比值w/p满足以下不等式：0.391≤(w/p)≤0.594。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 记录 还原 介质 制造 母盘 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光学记录还原介质，所述光学记录还原介质具有沿着记录轨道形成的凹槽，并且通过照射具有预定波长λ的光可以记录和/或还原所述光学记录还原介质，所述光学记录还原介质的特征在于，当假定n表示从光入射端面延伸到所述光学记录还原介质的所述凹槽的介质的折射系数时，所述凹槽的相位深度x满足以下不等式：λ/16.14n≤x≤λ/4.99n并且所述凹槽的宽度w和轨道间距p的比值w/p满足以下不等式：0.391≤(w/p)≤0.594
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼株式会社，未经索尼株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02802462.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：场致发光器件
- 下一篇：氢气发生装置、燃料电池系统、氢气发生装置的控制方法
