[发明专利]基于离子交换的脊形光波导器件的制作方法无效

专利信息
申请号: 02160077.5 申请日: 2002-12-25
公开(公告)号: CN1424597A 公开(公告)日: 2003-06-18
发明(设计)人: 文泓桥;何赛灵 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G02B6/13 分类号: G02B6/13
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 代理人: 林怀禹
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于离子交换的脊形光波导器件的制作方法,(1)将整片制作波导的基底材料放入熔融的硝酸钾熔液中进行离子交换,已能形成波导为判断标准,最终得到平板波导;(2)用预先设计好的掩模版进行光刻,然后在做好光刻的基底上蒸发一层金属Cr或Ni,蒸发完成后进行剥离,使得基底上的金属图形为预先设计图形,然后进行干法刻蚀,得到脊形波导。本发明与硅基二氧化硅波导相比,由于采用离子交换方法制作波导,不需要薄膜沉积,成本更低,工艺更简单;和传统扩散波导相比,由于采用了刻蚀的脊形波导,对光的限制更好。特别是制作的器件要求有空气槽或者反射面时,本方法更为简便。
搜索关键词: 基于 离子交换 脊形光 波导 器件 制作方法
【主权项】:
1.基于离子交换的脊形光波导器件的制作方法,其特征在于它包括如下两个工艺步骤:1)将整片制作波导的基底材料放入熔融的硝酸钾熔液中进行离子交换,离子交换的温度大于硝酸钾的熔点330℃而小于基底的熔化温度,扩散时间为5~10小时,已能形成波导为判断标准,最终得到平板波导;2)对做好的平板波导进行离子束刻蚀,刻蚀过程如下:用预先设计好的掩模版进行光刻,光刻胶采用剥离胶;然后在做好光刻的基底上蒸发一层金属Cr或Ni;用丙酮去胶进行剥离,使得基底上的Cr或Ni金属图形为预先设计图形;干法刻蚀,采用反应离子刻蚀或感应耦合离子刻蚀方法,得到脊形波导。
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