[发明专利]低回损蚀刻衍射光栅波分复用器无效
| 申请号： | 02159350.7 | 申请日： | 2002-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN1420374A | 公开（公告）日： | 2003-05-28 |
| 发明（设计）人： | 盛钟延;何赛灵 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G02B6/34 | 分类号： | G02B6/34;G02B6/124;H04J14/02 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人： | 林怀禹 |
| 地址： | 310027 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低回损蚀刻衍射光栅波分复用器。它包括输入波导，输出波导，蚀刻光栅，自由传播区域。输入波导和输出波导的入射点和出射点位于同一半径的圆上，而蚀刻光栅位于以2倍此圆半径为半径，且与此圆相内切的另一个圆上，蚀刻光栅的中心在两圆的切点上。蚀刻光栅的每一个反射齿面的朝向都由入射方向和出射方向确定，使入射光反射到同一个输出无像差点位置。输入位置和输出无像差点位置满足一个精确的关系，可以保证输入波导所在位置接受到最小的光回损。本发明可以更好的应用在波分复用系统中，它在最大限度提高回损性能的同时，与普通的减小回损的方法(如使用光隔离器)相比，没有附加任何的几何结构，制作工艺也没有改变，实现简单，成本不增加。 | ||
| 搜索关键词： | 低回 蚀刻 衍射 光栅 波分复用器 | ||
【主权项】：
1.一种低回损蚀刻衍射光栅波分复用器，包括输入波导(1)，输出波导(2)，蚀刻光栅(3)，自由传播区域(4)；其特征在于输入波导(1)和输出波导(2)的入射点和出射点位于同一半径的圆(A)上，而蚀刻光栅(3)位于以2倍圆(A)半径为半径，且与圆(A)相内切的圆(B)上，蚀刻光栅的中心在两圆的切点上；蚀刻光栅的每一个反射齿面(7)的朝向都由入射方向和出射方向确定，使入射光反射到同一个输出无像差点位置(6)。
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