[发明专利]能用于光波导的氧化物构件及其制造方法无效
| 申请号： | 02147029.4 | 申请日： | 2002-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN1402027A | 公开（公告）日： | 2003-03-12 |
| 发明（设计）人： | 马丁·莫加德 | 申请（专利权）人： | ASML美国公司 |
| 主分类号： | G02B6/13 | 分类号： | G02B6/13 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 范莉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 氧化物构件的形成方法及所形成的氧化物构件。一个实施例中，基片上形成有下涂层。下涂层上形成至少一层芯层，芯层中的硼含量使所述芯层中的内应力大致为零。芯层上形成的至少一层上涂层，其中至少一层上涂层和至少一层下涂层中的锗含量使上涂层和下涂层中有大致相等的折射率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 波导 氧化物 构件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种氧化物构件的制造方法，包括以下步骤：设置其上有下涂层的基片；在该下涂层上形成一组芯层；加热该芯层组，以形成固化芯层；以及在该固化芯层上形成至少一层上涂层。
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