[发明专利]投影光学系统,曝光装置以及设备的制造方法无效

专利信息
申请号: 02146669.6 申请日: 2002-11-01
公开(公告)号: CN1417610A 公开(公告)日: 2003-05-14
发明(设计)人: 重松幸二;工藤慎太郎 申请(专利权)人: 尼康株式会社
主分类号: G02B13/18 分类号: G02B13/18;G02B13/22;G03F7/20
代理公司: 北京集佳专利商标事务所 代理人: 王学强
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种投影光学系统,它虽然采用两侧远心的结构,但能够抑制由于所使用的玻璃材料的吸收引起的成像性能的恶化,且保证大数值孔径和宽大的曝光区域,而且,对于各像差能够很好地进行补正。在将第1物体的图形投影在第2物体上的投影光学系统中,上述投影光学系统的特征是具有包括折射率在1.57以上的玻璃材料的多种玻璃材料,而构成上述投影光学系统中最靠近成像侧的负透镜,如果将该最靠近成像侧的负透镜的焦点距离设为f,将上述第1物体到第2物体的距离设为L,将上述最靠近成像侧的负透镜的折射率设为n,满足条件式|f/L|<0.25、n≤1.55。上述投影光学系统内至少具有一个面的非球面(ASP1~ASP4)。
搜索关键词: 投影 光学系统 曝光 装置 以及 设备 制造 方法
【主权项】:
1.将第1物体的图形投影在第2物体上的投影光学系统,其特征是:该投影光学系统至少具有一个面的非球面,具有多种玻璃材料,该多种玻璃材料包括折射率在1.57以上的玻璃材料,而构成上述投影光学系统的透镜中最靠近成像侧的负透镜,满足下列条件式:|f/L|<0.25n≤1.55其中,f为上述最靠近成像侧的负透镜的焦点距离,L为上述第1物体到第2物体的距离,n为上述最靠近成像侧的负透镜的折射率。
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