[发明专利]光刻装置和器件的制造方法无效
| 申请号： | 02145592.9 | 申请日： | 2002-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN1450410A | 公开（公告）日： | 2003-10-22 |
| 发明（设计）人： | H·雅各布斯;P·沃斯特斯;S·A·J·霍尔;H·K·范德肖特;R·J·P·范迪森;D·W·卡兰 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 黄铁坚 |
| 地址： | 荷兰维尔*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光刻投射装置，其中导管向在真空室内的例如目标台、相关的电机或传感器等可移动部件提供有用物质。导管包括防止由于真空室的真空而发生导管渗气的柔性金属波纹管，该波纹管同时允许可移动部件至少在第一自由度移动。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投射装置包括：用于提供辐射投射射束的辐射系统；用于支撑构图部件的第一目标台，所述构图部件用于根据理想的图案对投射射束进行构图；用于保持基底的第二目标台；设有第一气体排出部件的真空室，用于为投射射束产生真空射束路径；用于在基底的靶部上投射带图案的射束的投射系统；和用于给所述真空室中可在至少一个自由度上移动的部件提供有用物质的导管，其特征在于导管包括柔性的金属波纹管。
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