[发明专利]光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法无效
| 申请号： | 02141841.1 | 申请日： | 2002-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN1428659A | 公开（公告）日： | 2003-07-09 |
| 发明（设计）人： | 肋屋和正;横井滋 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 吴磊 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供这样一种光刻胶用剥离液，其中含有(a)氢氧化四丁基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化甲基三丁基铵、氢氧化甲基三丙基铵等季铵氢氧化物、(b)水溶性胺、(c)水、(d)防腐蚀剂、以及(e)水溶性有机溶剂，(a)成分与(b)成分的配合比例为(a)成分：(b)成分＝1∶3～1∶10(质量比)。另外还提供使用该剥离液的光刻胶剥离方法。本发明的剥离液对于Al和Cu等金属布线的防腐蚀性、以及对于光刻胶膜和灰化残渣物、金属淀积物的剥离性优良。另外，对于Si类残渣物的剥离性和对于基板(特别是Si基板内面)的防腐蚀性也优良。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 剥离 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶用剥离液，其中含有(a)下述通式(I)表示的季铵氢氧化物、(b)水溶性胺、(c)水、(d)防腐蚀剂、以及(e)水溶性有机溶剂，(a)成分与(b)成分的配合比例为(a)成分：(b)成分＝1∶3～1∶10(质量比)，式中，R1、R2、R3、R4各自独立地表示烷基或羟烷基，其中，R1、R2、R3、R4中的至少1个表示碳原子数为3以上的烷基或羟烷基。
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