[发明专利]静电镀膜设备和静电镀膜方法无效
申请号: | 02140600.6 | 申请日: | 2002-07-10 |
公开(公告)号: | CN1396005A | 公开(公告)日: | 2003-02-12 |
发明(设计)人: | 小野川彻;桥谷学 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B05B5/025 | 分类号: | B05B5/025;B41J2/06 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 韩宏 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供能以一种具有高单分散性的液滴形式喷射某种高粘度镀膜液体的一台静电镀膜设备和一种静电镀膜方法。该静电镀膜设备包括一个镀膜液体盒,在该镀膜液体盒的内部存储某种镀膜液体;一个电压施加部分,它向该镀膜液体盒内的该镀膜液体施加一个相对于将要被喷镀该镀膜液体的被镀膜物体而言为正或为负的电压;一个喷嘴,它能以液滴形式向该被镀膜物体喷射已由该电压施加部分施加了电压的该镀膜液体。 | ||
搜索关键词: | 静电 镀膜 设备 方法 | ||
【主权项】:
1、一台静电镀膜设备,包括:一个镀膜液体盒,该镀膜液体盒的内部存储某种镀膜液体;一个电压施加部分,它向该镀膜液体盒内的镀膜液体施加电压,该电压相对于要被喷镀该镀膜液体的被镀膜物体而言为正或为负;一个喷嘴,它以液滴形式向该被镀膜物体喷镀已由该电压施加部分施加了电压的镀膜液体。
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