[发明专利]平版印刷装置，器件的制造方法，由此制成的器件，和计算机程序无效
| 申请号： | 02139995.6 | 申请日： | 2002-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN1448794A | 公开（公告）日： | 2003-10-15 |
| 发明（设计）人： | P·范德维恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06F7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维尔*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 预测由于掩膜MA的表面污染引起的传输损失，作为在掩膜上的位置和时间的函数。在曝光时的传输损失，用能够在整个曝光区域的长度上调节光束强度的设备进行补偿。 | ||
| 搜索关键词： | 平版印刷 装置 器件 制造 方法 由此 制成 计算机 程序 | ||
【主权项】：
1.一种平版印刷投射装置包括：一个用于提供辐射投射光束的辐射系统；一个用于支撑图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置根据理想的图案产生图案投射光束；用于支撑基片的基片台；用于将图案的光束投射到基片的靶部上的投射系统，其特征在于：预测装置用于基于图案形成装置的图形，在图案光束中预测由于所述图案形成装置的表面污染产生的不希望的强度损失；和补偿装置响应于预测的强度损失，用于对预测的强度损失进行补偿。
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