[发明专利]通过紫外线照射形成抗氧化层的方法及其抗氧化层结构无效
| 申请号： | 02105551.3 | 申请日： | 2002-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN1452453A | 公开（公告）日： | 2003-10-29 |
| 发明（设计）人： | 丘和正 | 申请（专利权）人： | 天瑞企业股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00;H01B7/17;H01B11/06 |
| 代理公司： | 中国商标专利事务所有限公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 台湾省桃园县 芦竹*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明介绍了一种通过紫外线照射形成抗氧化层的方法及其抗氧化层结构，其主要系在原导电主体的包覆皮膜表面先行施以银胶的覆盖，并于银胶的表层涂布有内含UV起始剂的PU(聚氨酯)，再将经由紫外线的照射令PU与起始剂产生交聚反应，而稳固附着在银胶的表层，以由银胶对导电主体形成EMI防制作用，再由PU层对银胶形成一抗氧化、抗摩擦的防护作用，且不影响原导电主体的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 紫外线 照射 形成 氧化 方法 及其 结构 | ||
【主权项】：
1.一种通过紫外线照射形成抗氧化层的方法，其整体抗氧化层的制作流程包括有：A、先在原导电主体的包覆皮膜表面先行施以银胶的覆盖；B、在银胶的表层涂布有内含UV起始剂的PU(聚氨酯)；C、再经由紫外线的照射，令PU与起始剂产生交聚反应，形成一稳固附着在银胶的表层的PU层。
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