[发明专利]曝光方法及曝光装置无效
| 申请号： | 02102898.2 | 申请日： | 2002-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN1369747A | 公开（公告）日： | 2002-09-18 |
| 发明（设计）人： | 町野胜弥 | 申请（专利权）人： | 尼康股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种曝光方法及曝光装置用以对具有大平面度的大型基板,在高生产性的情形下,进行精确度佳的曝光处理。在光学投影系统PL中用以将光罩M的图案曝光于基板P上的曝光装置EX具有用以检测基板P的平面度的检测装置,且控制装置CONT以检测装置的检测结果为基准对基板P的投影区域的尺寸设定成所定尺寸。投影区域尺寸的设定由对应光罩Ma～Md的照明区域的尺寸的遮蔽装置B所设定。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、一种曝光方法，适用于在一光学投影系统中在一基板上曝光形成一图案的方法，其特征在于：该方法包括：检测该基板的一平面度；以该平面度的检测结果为基准，对该基板上的一投影区域的尺寸进行设定。
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