[发明专利]温度测定方法、热处理装置和方法、计算机程序和辐射温度计无效
| 申请号： | 01817892.8 | 申请日： | 2001-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN1471631A | 公开（公告）日： | 2004-01-28 |
| 发明（设计）人： | 重冈隆 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G01J5/02 | 分类号： | G01J5/02 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种温度测定方法，它利用设置在离开所述被测定体的测定部的两个辐射温度计，测定在多重反射环境中由热源加热的被测定体的温度，所述两个辐射温度计具有：分别埋入所述测定部且可接受来自所述被测定体的辐射光的杆；和与该杆连接的光纤，并且开口数不同，在所述测定部与所述被测定体相对的面和所述被测定体之间形成所述多重反射环境，当取所述辐射温度计的所述杆的直径为D1，开口数为NA，所述被测定体到所述测定部的所述面的距离为D2，所述测定部的所述面的反射率为r，观察因子为F，多重反射系数为α，所述被测定体的辐射率为ε，所述被测定体的有效辐射率为εeff，N1和N2为参数时，可以利用所述两个辐射温度计的测定结果，计算所述ε，同时，利用下式计算所述被测定体的温度：d＝1－(1－NA·N1)N2/(D1/D2)εeff＝(1－α)·ε+α·ε/{1－F·r·(1－ε)}。 | ||
| 搜索关键词： | 温度 测定 方法 热处理 装置 计算机 程序 辐射 温度计 | ||
【主权项】：
1、一种温度测定方法，它利用设置在离开所述被测定体的测定部的两个辐射温度计，测定在多重反射环境中由热源加热的被测定体的温度，其特征在于，所述两个辐射温度计具有：分别埋入所述测定部，接受来自所述被测定体的辐射光的杆；和与该杆连接的光纤，该两个辐射温度计的开口数不同，在所述测定部与所述被测定体相对的面和所述被测定体之间形成所述多重反射环境；当取所述辐射温度计的所述杆的直径为D1，开口数为NA，所述被测定体到所述测定部的所述面的距离为D2，所述测定部的所述面的反射率为r，观察因子为F，多重反射系数为α，所述被测定体的辐射率为ε，所述被测定体的有效辐射率为εeff，N1和N2为参数时，可以利用所述两个辐射温度计的测定结果，计算所述ε，同时，利用下式计算所述被测定体的温度：α＝1-(1-NA·N1)N2/(D1/D2) εeff＝(1-α)·ε+α·ε/{1-F·r·(1-ε)}。
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