[发明专利]用于拉晶装置的热屏蔽组件无效
申请号: | 01816793.4 | 申请日: | 2001-09-07 |
公开(公告)号: | CN1468328A | 公开(公告)日: | 2004-01-14 |
发明(设计)人: | L·W·费里;S·L·金贝尔;K·D·麦卡勒姆;R·G·施伦克 | 申请(专利权)人: | MEMC电子材料有限公司 |
主分类号: | C30B15/14 | 分类号: | C30B15/14 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 马江立;吴鹏 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种热屏蔽组件,适合于在拉晶机内相对于坩埚安放在拉晶机中坩埚所装熔化的源材料上方。热屏蔽组件具有一个中心开口,该中心开口加工成一定尺寸和形状,用于在从熔化的材料提拉晶锭时围绕晶锭,并当从源材料提拉晶锭时基本插在晶锭和坩埚之间。热屏蔽组件包括一个外反射器和一个内反射器,外反射器具有一个内表面和一个与坩埚侧壁成相对间隔开关系的外表面,而内反射器位于外反射器内部。内反射器用一种具有低发射率的材料制成,并具有一个与外反射器的内表面基本成相对关系的外表面。内反射器的外表面和外反射器的内表面二者至少其中之一具有一个从其向外伸出的间隔装置,该间隔装置适合于内反射器和外反射器之间的接触关系。间隔装置使内反射器的外表面与外反射器的内表面间隔开,以便阻止从外反射器到内反射器的热传导。 | ||
搜索关键词: | 用于 装置 屏蔽 组件 | ||
【主权项】:
1.一种用于生产单晶锭的拉晶机,所述拉晶机包括:一个用于装熔化的半导体源材料的坩埚;一个加热器,所述加热器与坩埚成热传递关系,用于将坩埚加热到一个足以熔化坩埚所装半导体源材料的温度;一个提拉机构,所述提拉机构位于坩埚上方,用于从坩埚所装的熔化材料中提拉晶锭;及一个热屏蔽组件,所述热屏蔽组件适用于相对坩埚位于熔化的源材料上方,热屏蔽组件具有一个中心开口,所述中心开口的尺寸和形状加工成用于在从熔化的材料中提拉晶锭时围绕晶锭,当从源材料中提拉晶锭时,上述热屏蔽组件基本插在晶锭和坩埚之间,上述热屏蔽组件包括一个外反射器和一个内外射器,外反射具有一个内表面和一个基本与坩埚侧壁成相对、间隔开关系的外表面,而内反射器位于外反射器里面,内反射器用一种具有低发射率的材料制造并具有一个与外反射器的内表面成基本上相对关系的外表面,内反射器的外表面和外反射器的内表面二者至少其中之一具有一个由其向外伸出的间隔装置,所述间隔装置适合于内反射器和外反射器之间的接触关系,间隔装置将内反射器的外表面与外反射器的内表面间隔开,以便阻止从外反射器到内反射器的热传导。
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