[发明专利]陶瓷制品的清洁方法有效
| 申请号： | 01812032.6 | 申请日： | 2001-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN1440322A | 公开（公告）日： | 2003-09-03 |
| 发明（设计）人： | A·G·赫尔勒 | 申请（专利权）人： | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24C1/00 | 分类号： | B24C1/00;B08B3/08;B08B7/02;H01L21/00;C04B41/53 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 朱黎明 |
| 地址： | 美国马萨*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种用于制备半导体的陶瓷工件例如SiC舟的清洁方法。该方法包括用化学去除剂清洗初始的或用过的陶瓷工件，然后在酸洗过的组件上应用二氧化碳粒子清洁方法。发现本发明的方法可获得表面上金属和微粒污染物含量很低的工件。 | ||
| 搜索关键词： | 陶瓷制品 清洁 方法 | ||
【主权项】：
1.一种清洁具有无机表面的半导体加工用组件的方法，该方法包括如下步骤：a)将所述无机表面与化学反萃取剂接触，该化学反萃取剂选自不包括氢氟酸的试剂；b)将冻结二氧化碳粒子流喷射到所述表面上。
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