[发明专利]用于高锰酸盐蚀刻液电化学再生的阴极有效
| 申请号： | 01809636.0 | 申请日： | 2001-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN1429282A | 公开（公告）日： | 2003-07-09 |
| 发明（设计）人： | 伦哈德·迪·柏尔;瑟巴斯坦·杜尼贝尔 | 申请（专利权）人： | 埃托特克德国有限公司 |
| 主分类号： | C25B1/28 | 分类号： | C25B1/28;C25F7/02;C25B11/04 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用电解方法再生用于蚀刻和糙化塑料表面的高锰酸盐溶液是已知的。与化学再生方法相比较，尽管用这些方法产生相当少量副产物，但在处理印刷电路板时却产生大量二氧化锰。为避免再生期间生成二氧化锰，已发现一种新颖阴极2，该阴极2于阴极体3上具有多孔性、不导电层7。该层7优选由抗酸和/或碱的塑料材料组成。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 高锰酸盐 蚀刻 电化学 再生 阴极 | ||
【主权项】：
1.一种用于再生高锰酸盐蚀刻液的电化学设备所用的阴极，其中所述阴极(2)在其表面上具有多孔性不导电层(7)。
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