[发明专利]氧化铈溶胶及磨料无效
| 申请号： | 01144012.0 | 申请日： | 2001-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN1361064A | 公开（公告）日： | 2002-07-31 |
| 发明（设计）人： | 太田勇夫;谷本健二;西村透 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C01F17/00 | 分类号： | C01F17/00;C09K3/14 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供用于以二氧化硅为主成分的基板的抛光的磨料。所述磨料含有一种溶胶,该溶胶是将具有0.005～1μm的粒径且以镧原子、钕原子或其组合原子为X,按换算成X/(Ce+X)的mol比为0.001～0.5的比例含有镧化合物、钕化合物或其组合所组成的添加成分的立方晶系的结晶氧化铈为主成分的粒子分散在介质中得到的。使用这种磨料,可以实现高速抛光,同时得到高质量的抛光表面。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 溶胶 磨料 | ||
【主权项】：
1.一种溶胶，其是将以镧原子、钕原子或其组合原子为X，按换算成X/(Ce+X)的mol比为0.001～0.5的比例含有镧化合物、钕化合物或其组合构成的添加成分的立方晶系的结晶性氧化铈为主成分的粒子分散在介质中形成的。
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