[发明专利]基板曝光装置及方法有效
| 申请号： | 01143414.7 | 申请日： | 2001-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN1412623A | 公开（公告）日： | 2003-04-23 |
| 发明（设计）人： | 陈国祚 | 申请（专利权）人： | 威盛电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/22 | 分类号： | G03F7/22;H04N1/04 |
| 代理公司： | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 台湾省台北县*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种基板曝光装置，包括至少一线光源与一控制系统。其中，线光源由多个点光源所组成，而控制系统将图案转换为一时间信号以控制每一个点光源在不同时间的明、灭状态，且控制系统控制扫描光源照射于基材表面的光阻，以使得该光阻曝光。本发明还提出一种基板曝光方法，是通过多个点光源所构成的至少一线光源对光阻进行单次或是多次的扫描，以使得转移至光阻上的图案具有较佳的分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基板曝光装置，可将一图案转移至一基材表面的一光阻层上，其特征是，该基板曝光装置至少包括：一光源，该光源配置于距该基材具有该光阻层的表面一特定距离处，该光源包括多个点光源；以及一扫描控制系统，该扫描控制系统将该图案转换为一依时间变换的信号，以控制每一该些点光源在不同时间的明灭状态，且该控制系统使该基板曝光装置具有扫描功能，可使该光源沿着一扫描路径进行至少一次扫描，使该光阻层曝光。
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